GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀
一、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
1、可制備各種金屬、 單質(zhì)、 無(wú)機(jī)非金屬薄膜；
2、不破真空情況下， 可實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜制備；
3、一鍵操作， 全自動(dòng)控制， 智能化程度高；
4、一致性、 重復(fù)性好；
5、內(nèi)置多重靶材工作參數(shù)， 無(wú)需摸索鍍膜工藝；
6、體積小， 結(jié)構(gòu)緊湊， 非常節(jié)約空間；
二、產(chǎn)品參數(shù)：
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外形尺寸（主機(jī)） |
424(L)×345(D)×420(H) |
輸入電源 |
220V/50Hz 1000W |
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濺射靶頭 1 |
直流磁控濺射 |
可用靶材 |
金屬靶材 |
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濺射靶頭 2 |
射頻磁控濺射 |
可用靶材 |
無(wú)機(jī)非金屬靶材 |
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真空系統(tǒng) |
渦輪分子泵+旋片式真空泵 |
抽速 |
90L/s + 1.1L/s |
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真空測(cè)量 |
復(fù)合式真空規(guī) |
量程范圍 |
1E-3 ~ 1E5Pa |
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真空室 |
φ 200×130mm 高硼硅玻璃 |
抽氣節(jié)拍 |
10 分鐘（≤5E-3Pa） |
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樣品臺(tái)尺寸 |
φ 90mm |
樣品臺(tái)切換 |
自動(dòng)控制 |
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濺射靶材尺寸 |
φ 57mm（厚度 0.1-2mm） |
工作真空 |
0.1-2Pa |
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操作界面 |
7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏 |
操作語(yǔ)言 |
中文（可選其它語(yǔ)言） |
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冷水機(jī) |
小型臺(tái)式制冷機(jī) |
冷水機(jī)功率 |
180W |
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預(yù)濺射擋板 |
標(biāo)配全自動(dòng)控制預(yù)濺射擋板 |
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膜厚儀（選配） |
可實(shí)時(shí)顯示鍍膜厚度，并通過(guò)設(shè)定來(lái)控制鍍膜過(guò)程，測(cè)量精度 0.01nm，設(shè)定精度 0.1nm，單次設(shè)定范圍 1-999nm |
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溫控組件（選配） |
樣品臺(tái)加熱模塊 300℃/500℃ |
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旋轉(zhuǎn)組件（選配） |
傾斜旋轉(zhuǎn)、行星旋轉(zhuǎn)等 |
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小車(chē)（選配） |
將主機(jī)、射頻電源、冷水機(jī)等組裝在一起，整體性好 |
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安裝環(huán)境 |
220V/10A 三孔插座一個(gè)、純度 4N 及以上的高純氬氣（出口壓力 0.12MPa） |
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