GVC-2000手套箱專用磁控濺射儀（手套箱專用離子濺射儀）自動化程序控制，一鍵式操作，讓鍍膜更加高效。該設備采用觸摸控制，外置泵組設計，采用平面磁控濺射靶設計，從而使試樣在熱效應最小的條件下得到最有效的濺射效果，常用于鋰電池電極防氧化研究中。
　　一、手套箱專用離子濺射儀技術參數(shù)
　　1、輸入電壓：AC220V±10%，50Hz
　　2、工作電壓：DC2400V
　　3、最大功率（主機與機械泵）：500W
　　4、工作原理：磁控濺射
　　5、工作環(huán)境：溫度 5～40℃，濕度<60%
　　6、存儲環(huán)境：溫度-10~60℃，濕度<80%
　　7、真空泵：兩級直聯(lián)旋片式真空泵 1L/s
　　8、整機尺寸（長×寬×高）：424×271×255（mm）
　　9、重量（主機）：11 kg
　　10、真空腔：φ128×130mm
　　11、樣品杯：φ90×1 / φ25×4 / φ15×6
　　12、工作氣體：Air / Ar
　　13、保護功能：過流、真空雙保護
　　14、可選靶材：金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬
　　二、手套箱專用離子濺射儀主要特點
　　1、可用于純氬、純氮環(huán)境，使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染。
　　2、助力新型電池研究
　　3、提供全套解決方案及交鑰匙服務。