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GVC-2000磁控離子濺射儀


GVC-2000磁控離子濺射儀顆粒更小,更適宜于高倍圖像觀測(cè),適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡;低壓大電流濺射,效率更高。

描述

GVC-2000磁控離子濺射儀(鍍金儀)特點(diǎn)

  1. 基本無(wú)溫升、樣品表面無(wú)熱損失

GVC200001.png     GVC200002.png

      GVC-2000制樣效果圖                                          其他制樣設(shè)備效果圖

上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片,左側(cè)圖片為GVC-2000噴金后的電鏡觀測(cè)圖,可以看出,樣品形貌真實(shí)完整,右側(cè)圖片為其他設(shè)備噴金后的電鏡觀測(cè)圖片,可以看出,熱損傷嚴(yán)重,幾乎無(wú)法識(shí)別為同種樣品。

  1. 顆粒更小,更適宜于高倍圖像觀測(cè),適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡

GVC200003.png      GVC200004.png

                                            金顆粒尺寸:6~10nm

GVC200005.png   GVC200006.png

陶瓷膜,鍍層材料Pt,10萬(wàn)倍圖片,無(wú)顆粒感   濾膜材料,鍍層材料Pt,20萬(wàn)倍圖片,無(wú)顆粒感

  1. 低壓大電流濺射,效率更高