GVC-1000 全自動離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)主要應(yīng)用于配套掃描電鏡的樣品制備工作，同時可以滿足不同用戶對樣品涂層的制備要求。擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng)，可以更換不同的金屬靶材（金，鉑，銀，銥，鉻，銅等），實現(xiàn)高要求的細(xì)粒涂層。GVC系列為您提供優(yōu)質(zhì)的樣品制備，輕松助您取得更好地材料研究樣品， 獲得高質(zhì)量的顯微鏡觀測效果。

　　GVC-1000 全自動離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)性能參數(shù)
　　1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射
　　2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等
　　3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃
　　4、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等
　?。?）濺射電流自動調(diào)整——設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時間＜5s，波動范圍＜±5%；
　?。?）無需按“實驗”鍵調(diào)整濺射電流、無需操作“進氣閥”。
　　（3）濺射時間自動記憶——同類樣品一次設(shè)定即可；
　?。?）參數(shù)改變自動調(diào)整——濺射過程中可以隨時調(diào)整濺射電流和濺射時長，系統(tǒng)自動計算疊加，無需終止濺射過程；
　　（5）工作完成自動放氣；
　?。?）樣品臺高度調(diào)節(jié)1秒完成；
　?。?）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。
　　（8）極限真空：小于1Pa
　　5、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠
　　（1）真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；
　?。?）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；
　　（3）真空泵工作時，系統(tǒng)無法進行放氣操作；
　　6、鍍層均勻，導(dǎo)電性良好。