GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀
高真空磁控離子濺射儀集成化了 LCD 觸摸顯示屏操作界面，有利于實(shí)際操作。外界機(jī)械泵（隨附）可完成迅速真空泵，進(jìn)而為大部分規(guī)范SEM剖析給予充足的涂層晶體規(guī)格。
全自動(dòng)知識(shí)產(chǎn)品
沒(méi)有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡
鍍金儀應(yīng)用領(lǐng)域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備（實(shí)際放大倍數(shù)≥100K）
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極
高真空磁控離子濺射儀(鍍金儀)配置與技術(shù)參數(shù)
| 名稱(chēng)&型號(hào) | 高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T |
| 真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵（進(jìn)口 ）：德國(guó)萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s） 旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s） |
| 真空測(cè)量 | 全量程復(fù)合真空規(guī)（進(jìn)口）：1.0E5Pa-1E-4Pa |
| 系統(tǒng)極限真空 | ≤5E-3Pa |
| 濺射電源 | 磁控濺射電源,最大功率150W |
| 可用靶材 | 所有金屬靶材，ITO靶材 |
| 濺射電壓 | 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化 |
| 濺射電流 | 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長(zhǎng)5mA |
| 濺射時(shí)間 | 0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長(zhǎng)1s |
| 操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
| 操作方式 | 一鍵操作 |
| 抽氣節(jié)拍 | ＜15分鐘 |
| 控制方式 | 只需設(shè)定濺射電流和時(shí)間即可，全自動(dòng)控制 具備預(yù)濺射擋板（預(yù)濺射時(shí)間可設(shè)定),全自動(dòng)控制 |
| 保護(hù)功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護(hù)等 |
| 樣品臺(tái)直徑 | φ125mm，可自轉(zhuǎn)，可自動(dòng)手動(dòng)控制，轉(zhuǎn)速4-40rpm可調(diào) |
| 真空室 | 高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ200×130mm |
| 電源供電 | 220V 50Hz 最大功率800W |
| 尺寸&重量 | 重量 424（長(zhǎng)) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （凈重) |
| 冷卻方式 | 內(nèi)部風(fēng)冷 |
| 選配 | 樣品臺(tái)選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測(cè)等 |
鍍膜樣品示例：
靶材-銀 靶材-鎢 靶材-鉻
靶材-鎳 靶材-釩 靶材-錫
靶材-銅 靶材-鉭 靶材-貼
靶材-鈦 靶材-鉛 靶材-鉬
靶材-鋁 靶材-鉑 靶材-金
靶材-鋯 靶材-鉺 靶材-ITO
